介绍：采用VAD 气相轴向沉积法制备高纯合成石英（纯 SiO₂），半导体 / 光刻掩膜主流基板材料。
应用：SK1300--半导体光刻掩膜基板、LCD/TFT 掩膜片、紫外光学窗口;
SK1310--红外光谱仪基底、红外测温窗口、光纤预制棒、宽光谱光学元件等。
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石英玻璃晶圆基板
国产牌号
熔融石英，国产JGS1、JGS2、JGS3；高硼硅玻璃，国产BF33；长飞石英YS-1330等
进口牌号
德国肖特BF33，美国康宁7980，日本小原SK-1300等
直径
25.4mm
50.8 mm
100mm
150mm
200mm
300mm
厚度（超薄厚度）
150μm/500μm
100μm/500μm
200μm/500μm/ 725μm/1000μm
200μm/725μm/1000μm
300μm/725μm/1000μm
表面粗糙度
Double Sides Polished, Ra＜ 1.0nm
定位-平边
8mm
16mm
30mm
47.5mm
/
定位-Notch
Semi-Notch
表面光洁度
S/D 60/40, S/D 40/20
边缘去除
≤ 2mm
面型
TTV＜ 2μm
光学参数(日本小原)
气泡
0-0.03 mm2/100cm3
比强度 (应变)
10nm/cm及以下
条纹
单向A级(根据Mil-G-174)
荧光
不允许(激发波长254nm)
机械参数(日本小原)
弹性（杨氏模量)
72.4GPa
泊松比
0.17
扭转刚度
30.9GPa
克努普硬度
6.4-7.0GPa
弯曲强度
69MPa
维氏硬度
55MPa
拉伸强度
8.8-10.1GPa
抗压强度
1.1GPa
SK1300-透过率曲线
