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介绍:碳化硅衬底是第三代半导体材料,属于宽禁带半导体材料。碳化硅是由C和Si元素按1:1比例形成的Ⅳ-Ⅳ族化合物半导体材料,硬度仅次于金刚石。它具有高硬度、高热导率、高击穿电场等优异特性。
应用:6H-N晶型:高热稳定性,适合高温应用;机械性能优异,适合高机械应力环境。6H-P晶型:电学特性良好,适合高频、高功率电子器件。4H-P晶型:电学性能优越,适合高频、高功率器件。热导率高,散热性能好。3C-N晶型:立方晶体结构,适合某些特殊电子器件。具有更低的电阻率,比4H-N晶型碳化硅拥有更强的性能。
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