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导电特殊晶型

介绍碳化硅衬底是第三代半导体材料,属于宽禁带半导体材料。碳化硅是由C和Si元素按1:1比例形成的Ⅳ-Ⅳ族化合物半导体材料,硬度仅次于金刚石。它具有高硬度、高热导率、高击穿电场等优异特性。

应用:6H-N晶型:高热稳定性,适合高温应用;机械性能优异,适合高机械应力环境。6H-P晶型:电学特性良好,适合高频、高功率电子器件。4H-P晶型:电学性能优越,适合高频、高功率器件。热导率高,散热性能好。3C-N晶型:立方晶体结构,适合某些特殊电子器件。具有更低的电阻率,比4H-N晶型碳化硅拥有更强的性能。

产品规格书

碳化硅导电特殊晶型单晶衬底(6H-N/4H-P/6H-P/3C-N)

直径

10*10 mm

50.8mm

100mm

厚度

350μm

350μm

350μm

晶型

6H-N ∣ 4H-P ∣ 6H-P ∣3C-N

表面晶向6H-N/4H-P/6H-P

Off axis: 0.0°- 8.0° toward <11-20>  ± 0.5°

表面晶向3C-N

On axis : <0001>±0.5°

电阻率6H-N/4H-P/6H-P

≤ 0.5 Ω ·cm

电阻率3C-N

≤ 1.0 mΩ ·cm

正面状态

Si-Face:CMP,Ra<0.5nm

反面状态

C-Face:Optical Polish,Ra<1.0nm

镭刻码面

Back side :C-Face

总厚度偏差TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

弯曲度BOW

≤15μm

≤25μm

≤25μm

翘曲度WARP

≤30μm

≤30μm

≤40μm

产品性能表

碳化硅单晶 Silicon carbide

晶体结构

六方晶体

禁带宽度(eV)

3.26eV

熔点(℃)

2730℃

莫氏硬度(mohs)

9.2

热导率(W·cm-1·℃-1)

4.9W·cm-1·℃-1

热膨胀系数(℃-1)

4.7×10-6

晶格常数(nm)

a=0.3076 c=0.5048

电子迁移率(cm-2·V-1·s-1

720a 650c

击穿电场(MV·cm-1)

3.1

JFM指数(power)

410

BFM指数(SW)

290

BHFM指数(RF)

34

折射率

2.6767~2.6480

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