成为一个全国领先的半导体晶圆材料加工与技术服务供应商
To be a globally leading semiconductor wafer material processing and technology service provider
优质、定制、创新、发展
High quality、customized、innovative and advancement.

始终关注客户需求,为客户
企业和员工的共同发展而努力
Always pay attention to customer needs and strive for the common development of customers, enterprises, and employees

产品详情
details
产品详情

图形化衬底PSS/NPSS

介绍化学式(α-Al2O3),为六方晶格结构。化学性质非常稳定,不溶于水,耐强酸、强碱的腐蚀。莫氏硬度9级,熔点为2050℃,沸点3500℃,最高工作温度可达1900℃。透光性好,热传导性和电气绝缘性,力学机械性能表现优秀,具有耐磨和抗划伤的特点。

应用:PSS增强LED光提取效率,广泛应用于普通照明、背光源及显示领域;NPSS用于高端LED、激光器等精密光学和电子设备,进一步提升性能

产品规格书

⠀⠀

图形化PSS蓝宝石衬底晶片(2~6英寸)

直径

50.8mm

100mm

150mm

厚度

430μm

650μm

1000μm

表面晶向

C-plane(0001) off-angle toward M-axis(10-10) 0.2 +/- 0.1°

C-plane(0001) off-angle toward A-axis(11-20) 0 +/- 0.1°

定位边晶向

A-Plane(11-20) ± 1.0°

定位边长度

16mm

30mm

47.5mm

正面状态

Patterned

反面状态

SSP:Fine-ground,Ra=0.8-1.2um; DSP:Epi-polished,Ra<0.3nm

镭刻码面

Back side

图形参数PSS

Shape Structure

Triangle Array

Pattern Height

1.6~1.8μm

Pattern Width

2.70~2.85μm

Pattern distance

2.9~3.1μm

图示PSS

图片1.png


纳米压印图形化NPSS蓝宝石衬底晶片(2~4英寸)

直径

50.8mm

100mm

厚度

430μm

1000μm

650μm

1000μm

表面晶向

C-plane(0001) off-angle toward M-axis(10-10) 0.2 +/- 0.1°

C-plane(0001) off-angle toward A-axis(11-20) 0 +/- 0.1°

定位边晶向

A-Plane(11-20) ± 1.0°

定位边长度

16mm

30mm

正面状态

Patterned

反面状态

SSP:Fine-ground,Ra=0.8-1.2um; DSP:Epi-polished,Ra<0.3nm

镭刻码面

Back side

图形参数NPSS

Shape Structure

Hexagonal Array

Pattern Type

V500

V600

V700

Pattern Diameter

400-550nm

550-650nm

650-750nm

Pattern Height

250-450nm

250-450nm

250-450nm

Pattern Pitch

1000nm

1000nm

1000nm

Pattern Type

V800

V900

∧700

Pattern Diameter

750-850nm

850-950nm

600-800nm

Pattern Height

350-550nm

350-550nm

350-700nm

Pattern Pitch

1000nm

1000nm

1000nm

图示NPSS

图片1(1).png



联系我们
contact us
0510-86886380
江苏省江阴市港城大道988号