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  • 碳化硅同质外延：高性能功率器件的基石
    碳化硅同质外延：高性能功率器件的基石
    碳化硅同质外延：高性能功率器件的基石 在第三代半导体材料中，碳化硅（SiC）凭借宽禁带、高击穿电场和优异的热导率，展现出独特优势。随着其在电动汽车、高压变换器等领域的广泛应用，SiC 器件正在深刻改变电力电子产业格局，大幅提升能效。而在这些高性能器件
    2025-09-15
  • N 型与 P 型碳化硅外延：驱动功率器件性能的核心选择
    N 型与 P 型碳化硅外延：驱动功率器件性能的核心选择
    N 型与 P 型碳化硅外延：驱动功率器件性能的核心选择 碳化硅（Silicon Carbide, SiC）作为第三代半导体的核心材料，凭借宽禁带、高击穿电场、优异热导率
    2025-09-15
  • 解密碳化硅外延生长：高性能器件的核心工艺与外延技术全景解析
    解密碳化硅外延生长：高性能器件的核心工艺与外延技术全景解析
    解密碳化硅外延生长：高性能器件的核心工艺与外延技术全景解析 引言 碳化硅（SiC）外延生长是高性能电子器件制造的核心工艺环节，尤其在 SiC 外延片（SiC epi wafers）的生产中具有不可替代的重要性。凭借其优异的电学、热学及化学特性，SiC 被广泛应用于功率器件、光电器件以及高温传感器等领
    2025-09-02
  • 碳化硅外延片的制备方法
    碳化硅外延片的制备方法
    碳化硅外延片的制备方法 在第三代半导体材料中，碳化硅（SiC）凭借其优异的电学、热学和机械性能，已成为高压及大功率电子器件的核心材料。目前，化学气相沉积（CVD）是制备碳化硅外延片应用最广泛且最成熟的工艺。本文系统介绍了主流 SiC 外延生长方法，对不同工艺进行了技术比较，并探讨了未来的发展趋势。
    2025-09-02
  • 碳化硅（SiC）外延晶圆特性解析
    碳化硅（SiC）外延晶圆特性解析
    碳化硅（SiC）外延晶圆特性解析 随着高效能功率电子器件与高可靠性半导体元件需求的不断增长，碳化硅（Silicon Carbide, SiC）外延晶圆已成为下一代技术的核心基材。凭借卓越的热导率、宽禁带特性及高击穿电压，SiC晶圆在性能方面远超传统硅材料。本文将系统解析SiC外延晶圆的关键特性，并说
    2025-08-25
  • 外延晶圆详解：半导体器件的核心基材
    外延晶圆详解：半导体器件的核心基材
    外延晶圆详解：半导体器件的核心基材 随着现代电子与信息技术的飞速发展，半导体材料的性能已成为影响器件效率、功耗、可靠性及寿命的关键因素。作为先进半导体器件制造中的核心材料，外延晶圆（Epitaxial Wafer）凭借其优异的结晶质量与可控结构，正在集成电路、新能源、高频通信、光电器件等诸多战略性行
    2025-08-25
  • 碳化硅晶圆标识之争：为何6英寸依然青睐平边而非缺口？
    碳化硅晶圆标识之争：为何6英寸依然青睐平边而非缺口？
    碳化硅晶圆标识之争：为何6英寸依然青睐平边而非缺口？ 在碳化硅（SiC）晶圆制造中，**定位平边（Orientation Flat）与定位缺口（Notch）**是两种常用的晶向标识方法，用于指示晶圆的晶体取向及主轴方向，从而辅助生产和搬运过程中的精确对准。两者的选择体现了不同的技术与工艺需求，并受到
    2025-08-18
  • 碳化硅衬底全等级解析：从科研测试到高端功率应用
    碳化硅衬底全等级解析：从科研测试到高端功率应用
    碳化硅衬底全等级解析：从科研测试到高端功率应用 碳化硅（Silicon Carbide，SiC）衬底是宽禁带半导体器件制造的关键基础材料。根据衬底的质量、缺陷密度、尺寸规格与表面处理工艺，SiC衬底被划分为不同等级，以匹配不同应用需求与市场定位。这些分类不仅决定了器件的性能和可靠性，也直接影响生产成
    2025-08-18
  • 为什么硅化碳（SiC）晶圆存在碳面（C面）和硅面（Si面）？
    为什么硅化碳（SiC）晶圆存在碳面（C面）和硅面（Si面）？
    为什么硅化碳（SiC）晶圆存在碳面（C面）和硅面（Si面）？ 1. SiC的基本结构与组成
    2025-08-13
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