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化合物外延Ⅲ-Ⅴ

介绍Ⅲ-Ⅴ化合物外延晶片是由元素周期表中Ⅲ族(如Ga、In、Al)和Ⅴ族(如As、P、N)元素组成的半导体材料,通过MOCVD、MBE等技术生长,晶体质量高;高电子迁移率;直接带隙;适合光电器件;可调带隙,适应不同波长需求等特点。

应用HEMT-高电子迁移率晶体管结构材料;PHEMT-赝配高电子迁移率晶体管结构材料;HALL-霍尔元件砷化镓外延材料;HBT-异质结双极晶体管;PD-光电探测器;APD-雪崩光电二极管;VCSEL-垂直共振腔面发射型激光器结构材料;EE-lasers-边射型激光器结构材料;Photocathode-光电阴极。

产品规格书

Ⅲ-Ⅴ化合物外延

衬底类型

GaAs、InP

衬底直径

2英寸-50.8mm

外延化合物

GaAs、InP、AlGaAs、InGaP、
InGaAs、InAlGaAs、InAs、InAlAs

掺杂类型

Si-N型、Be CBr4-P型

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